傳內地實現光刻機國產化　國企澄清為科學實驗裝置

內地近日有消息稱，北京清華大學極紫外光（EUV）光源項目把荷蘭光刻機巨頭ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，而該項目已在雄安新區落地。中國電子工程設計院有限公司（下稱中國電子院）周一（18日）澄清，該項目並非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源（HEPS）項目。

據介紹，上述HEPS項目坐落於北京懷柔雁棲湖畔，是內地首台高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第4代同步輻射光源之一。該項目於2019年開始建設，將於2025年底投入使用。中國電子院表示，HEPS可看成一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機，其產生的小光束可穿透物質、深入內部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，這是進行科學實驗的大科學裝置，而非網傳的光刻機工廠。

中國電子院稱，該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊，該院多個技術科研和設計團隊協同合作，從項目可研立項到項目落地克服了多項技術和工藝難關，目前HEPS配套工程已全面完工。