ASML新一代光刻機身價近30億元　英特爾已落單

荷蘭半導體設備龍頭企業ASML上周五(9日)展示新一代極紫外光微影設備(High NA EUV)，身價高達3.5億歐元(約29.52億港元)，英特爾已落了首張訂單，預計2025年底可以生產晶片。

外媒報道，該部High NA EUV大小約一輛雙層巴士，ASML發言人稱，要安裝該套重達150公噸的系統，需要用250個貨櫃、250名工程師，耗時6個月才能完成。首台機器已於去年底運往英特爾位於美國俄勒岡州的一家工廠，計劃2025年底開始用它生產晶片。

另外兩家半導體巨頭台積電及三星也表示，打算引入上述設備，但未有說明時間表。ASML指出，至今已收到10至20台訂單，其中包括為SK海力士提供的試點設備，預計到2028年每年可交付20台。

據報，這款新一代EUV可在8納米厚半導體上列印電路，較前一代細1.7倍。電路愈細，晶片上可安裝的電晶體就愈多，處理速度和記憶體的表現愈佳，對人工智能(AI)發展相當重要。