破冰之作！俄罗斯首台光刻机面世　料生产350纳米晶片

外媒报道，俄罗斯首台光刻机已经面世，并正进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长Vasily Shpak指，该设备可确保生产350纳米的晶片。“我们组装并制造第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒(Zelenograd，莫斯科郊外卫星城)技术生产线的一部分，目前正对其进行测试。”

在全球，这种复杂程度的设备由几家主要公司组装，其中由荷兰ASML公司主导，另外还有日本的佳能(Canon)和尼康(Nikon)。目前，台积电及三星(Samsung)利用ASML的EUV(极紫外光)光刻技术，已经能够生产精细至3纳米，甚至2纳米的晶片。虽然350纳米的晶片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电讯等诸多行业中仍有应用价值。

对于受到西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。