竊取半導體機密　SK海力士前華員工在韓判囚1年半

南韓半導體公司SK海力士一名中國籍前員工，因竊取關鍵半導體技術後跳槽到中國科企華為，被南韓水原地方法院驪州分院判囚1年半，並罰款2,000萬韓圜（約11.2萬港元）。

韓媒上周六（9日）報道指，36歲女被告2013年起在SK海力士負責分析缺陷半導體設計的部門工作，隨後調往SK海力士中國上海分公司，並在2020年至前年負責公司間交易的諮詢工作。她前年8月被安排返韓工作，但同月跳槽到華為以獲得更高年薪。但她離職前涉違反規定，4天內列印約4,000頁有關半導體製造流程解決方案的技術資料，每天將約300頁藏在袋中分批帶出。公司報案後南韓警方展開調查，今年4月在被告抵韓時在機場逮捕她。

水原地方法院驪州分院上周四（7日）認定被告違反《產業技術保護法》，駁回她稱列印上述南韓核心技術資料是為了研究目的，以及加快工作交接的辯詞。法院認為，被告可能意圖利用這些資料向新僱主證明其價值，但因沒明確證據顯示這些技術被華為使用，SK海力士也沒具體蒙受損失的證明，因此判處較輕刑期。